根離子的主要缺點(diǎn)

根離子的主要缺點(diǎn)是對工件、鍍槽、陽極的腐蝕性大，槽液維護(hù)要求高。當(dāng)鍍液含有3克/升以上的鐵離子時，就會嚴(yán)重影響鉻層的光澤與鍍液的分散能力，降低工作范圍及電流效率。因此若以根離子完全代替***根離子的鍍鉻電解液，由于上述的缺陷，不能長期很好地生產(chǎn)。而采用根和***根離子配合的鍍鉻電解液，應(yīng)用較廣。 一般的電鍍流程:先處理一下底材表面潔凈，活化，增進(jìn)電鍍效率及表面附著力;電鍍一底材表面 電鍍薄膜;后處理一將 電鍍殘留藥業(yè)去除，干燥，防止鍍層變異，品質(zhì)不良。

為什么雙層鍍鎳能提高鎳層的防護(hù)性能?

答:雙層鎳是先沉積一層無硫的(或含硫量較少的)柱狀***的半光亮鎳(或普通暗鎳)，然后再鍍上一層含硫較高的層狀***的全光亮鎳層。層鎳的厚度通常占總厚度的2/3左右。鍍層的機(jī)械性能主要由韌性較好的半光亮鎳(或普通暗鎳)層決定。兩個鎳層之間，由于含硫量不同，它們的電極電位亦不同。一般說來，層半光亮鎳層的電位比全光亮鎳層更正。若半光亮鎳完全不含硫，那末，光亮鎳與半光亮鎳之間就有一個比較大的電位差(約155MV)。

單金屬電鍍至今已有170多年歷史,元素周期表上已有33種金屬

單金屬電鍍至今已有170多年歷史，元素周期表上已有33種金屬可從水溶液中電沉積制取。常用的有電鍍鋅、鎳、鉻、銅、錫、鐵、鈷、鎘、鉛、金、銀等l0余種。在陰極上同時沉積出兩種或兩種以上的元素所形成的鍍層為合金鍍層。合金鍍層具有單一金屬鍍層不具備的***結(jié)構(gòu)和性能，如非晶態(tài)Ni—P合金，相圖上沒有的各蕊sn合金，以及具有特殊裝飾外觀，特別高的抗蝕性和優(yōu)良的焊接性、磁性的合金鍍層等。

磷化處理是一種化學(xué)反應(yīng)

磷化處理是一種化學(xué)反應(yīng)，在表面形成一層膜（磷化膜）的一種表面處理工藝。磷化處理工藝主要用在金屬表面，目的也是為金屬表面提供一層保護(hù)膜，讓金屬與空氣隔絕，防止其被腐蝕；還會用于一些產(chǎn)品涂漆之前的打底，有了這層磷化膜能夠提高漆層的附著力和防腐蝕能力，提高裝飾性讓金屬表面看起來更漂亮，并且還能夠在部分金屬冷加工過程中起到潤滑的作用。