光亮***鍍銅液中的氯離子對鍍層有何影響?

光亮***鍍銅液中的氯離子對鍍層有何影響?答:在光亮酸性鍍銅溶液中必須存在少量氯離子才能得到全光亮鍍層，其含量一般控制在10～80 毫克/升，如含量過低，鍍液整平性能和鍍層光亮度均下降，且易產(chǎn)生光亮樹枝條紋，嚴重時鍍層粗糙有，甚至燒焦。過高時，鍍層光亮度下降和低電流密度區(qū)不亮。氯離子可用鹽酸或氯化銅溶液的形式加入。因為一般工業(yè)用***銅和活性炭中含有少量氯離子，所以新配溶液時，可不必另加氯離子。

按用途分類可分為:防護性鍍層:Cu—Ni—Cr、Ni-Fe-

按用途分類可分為：

①防護性鍍層：如Zn、Ni、Cd、Sn和Cd-Sn等鍍層，作為耐大氣及各種腐蝕環(huán)境的防腐蝕鍍層；

②防護．裝飾鍍層：如Cu—Ni—Cr、Ni-Fe-Cr復(fù)合鍍層等，既有裝飾性，又有防護性；

③裝飾性鍍層：如Au、Ag以及Cu．孫仿金鍍層、黑鉻、黑鎳鍍層等；

④修復(fù)性鍍層：如電鍍Ni、Cr、Fe層進行修復(fù)一些造價頗高的易磨損件或加工超差件；

⑤功能性鍍層：如Ag、Au等導(dǎo)電鍍層；Ni-Fe、Fe-Co、Ni-Co等導(dǎo)磁鍍層；Cr、Pt-Ru等高溫鍍層；Ag、Cr等反光鍍層；黑鉻、黑鎳等防反光鍍層；硬鉻、Ni．SiC等耐磨鍍層；

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物***相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

磷化處理是一種化學(xué)反應(yīng)

磷化處理是一種化學(xué)反應(yīng)，在表面形成一層膜（磷化膜）的一種表面處理工藝。磷化處理工藝主要用在金屬表面，目的也是為金屬表面提供一層保護膜，讓金屬與空氣隔絕，防止其被腐蝕；還會用于一些產(chǎn)品涂漆之前的打底，有了這層磷化膜能夠提高漆層的附著力和防腐蝕能力，提高裝飾性讓金屬表面看起來更漂亮，并且還能夠在部分金屬冷加工過程中起到潤滑的作用。