含有根離子的電解液

一般采用或來(lái)提供根離子。根離子另一特點(diǎn)是能在低溫(18～25℃)低電流密度(2～2.5A/d㎡)下獲得光亮的鉻層。當(dāng)溫度達(dá)45℃時(shí)，可獲得光亮鉻層的電流效率為19～21%，而在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液中則為13%。含有根離子的電解液，隨著溫度上升，其工作范圍比含有***根離子的電解液為寬。溫度和電流密度的控制要求嚴(yán)格，兩者之間還要緊密配合。電流密度固定，溫度只能變動(dòng)1～2℃，溫度固定，電流密度變動(dòng)2～3A/d㎡。

鍍鎳溶液的常見(jiàn)金屬雜質(zhì)是什么?

鍍鎳溶液的常見(jiàn)金屬雜質(zhì)是什么?答:鍍鎳電解液對(duì)雜質(zhì)非常敏感，當(dāng)存在某些金屬雜質(zhì)時(shí)(其含量甚微)，會(huì)使鎳鍍層質(zhì)量變壞。銅、鐵、鋅等金屬離子是鍍鎳液中常見(jiàn)的***金屬雜質(zhì)。鐵在電解液中比鎳優(yōu)先沉積在陰極上，而使鍍層發(fā)脆，易龜裂。鐵在鍍鎳液中的高含量不得大于0.1克/升。銅的析出電位低，所以優(yōu)先在陰極析出，使鎳層呈棕黑色或灰黑色。銅的高允許含量為0.02克/升。鋅在鍍鎳液中的允許含量不大于0.01克/升，當(dāng)電解液中含有少量鋅時(shí)，在鍍件的邊緣及尖角上產(chǎn)生光亮的鍍層。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發(fā)金屬或化合物的方法，通過(guò)將蒸發(fā)的原子或分子應(yīng)用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業(yè)應(yīng)用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應(yīng)用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物***相沉積）和CVD法（化學(xué)氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發(fā)固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過(guò)激發(fā)和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

錳系磷化顏色呈黑色或者黑灰

錳系磷化顏色呈黑色或者黑灰，所以也被稱(chēng)為黑色磷化，主要是使用含有錳離子的磷化溶液，會(huì)在工件表面形成一層黑色的磷化膜，它也是防銹性能好的一種磷化處理，可以作為零部件的長(zhǎng)期防銹，也是應(yīng)用的一種防銹磷化。錳系磷化會(huì)比其它磷化的摩擦系數(shù)更小，所以對(duì)于那些經(jīng)常摩擦的零部件就可以使用黑色磷化，能夠有效的減小摩擦，如一些汽車(chē)零部件以及一些緊固件等等。