為此,有人改進(jìn)工藝為:拋光、除油工序

為此，有人改進(jìn)工藝為：拋光、除油工序同原工藝 →混酸除膜 (25% HCl +8% HNO3 +10% HF) →冷水洗 →活化 (10% HCl +5% NH4F，60℃) →熱水洗 →化學(xué)鍍鎳。改進(jìn)工藝的優(yōu)點(diǎn)：① 采用混酸除去不銹鋼表面難溶的 FeCrO4 氧化膜、Si、SiO2，使基體表面的化學(xué)活性增強(qiáng)；② 工序簡(jiǎn)化，避免了不銹鋼新鮮表面重新被氧化；③ 增加基體的預(yù)熱工序，消除鍍層與基體因溫差而產(chǎn)生的應(yīng)力。因此，化學(xué)鍍鎳與基體結(jié)合力好，鍍速快等。

化學(xué)鍍鎳是化學(xué)方法鍍鎳,也叫沉鎳

化學(xué)鍍鎳又稱作無(wú)電鍍或者自催化鍍，它是一種在不加外在電流的情況之下，利用還原劑在活化零件表面上自催化還原沉積得到鎳層，當(dāng)鎳層沉積到活化的零件表面之后由于鎳具有自催化能力，所以該過(guò)程將自動(dòng)進(jìn)行下去。

化學(xué)鍍鎳是化學(xué)方法鍍鎳，也叫沉鎳。電解鎳是物理方法鍍鎳。

無(wú)電解鍍鎳是化學(xué)鍍鎳，也叫化學(xué)沉鎳，是由添加的還原劑提供催化動(dòng)力發(fā)生鎳層的沉積。鍍液常常要添加主鹽，穩(wěn)定劑，還原劑，絡(luò)合劑，緩沖劑等。

電鍍鎳是在指在電場(chǎng)的作用下導(dǎo)致離子發(fā)生定向遷移沉積成鍍層的過(guò)程。鍍液除了主鹽等主要成分外還要加各種電鍍添加劑和各種助劑，主要是使鍍層出光，整平，細(xì)化結(jié)晶，防止等等。

化學(xué)鍍?cè)诒砻嫣幚砑夹g(shù)中占有重要的地位

化學(xué)鍍?cè)诒砻嫣幚砑夹g(shù)中占有重要的地位?；瘜W(xué)鍍是利用合適的還原劑使溶液中的金屬離子有選擇地在經(jīng)催化劑活化的表面上還原析出成金屬鍍層的一種化學(xué)處理方法。

可用下式表示： M2++2e(由還原劑提供)--->M

在化學(xué)鍍中，溶液內(nèi)的金屬離子是依靠得到所需的電子而還原成相應(yīng)的金屬。例如，在酸性化學(xué)鍍鎳溶液中采用次磷酸鹽作還原劑，它的氧化還原反應(yīng)過(guò)程如下：

Ni2++2e--->Ni(還原) (H2PO2)-+H2O--->(H2PO3)-+2e＋2H＋(氧化) 兩式相加，得到全部還原氧化反應(yīng)：

Ni2++(H2PO2)-+H2O--->(H2PO3)-+Ni＋2H+

還原劑的有效程度可以用它的標(biāo)準(zhǔn)氧化電位來(lái)推斷。由上述可知，次磷酸鹽是一種強(qiáng)還原劑，能產(chǎn)生一個(gè)正值的標(biāo)準(zhǔn)氧化一還原電位。但不應(yīng)過(guò)分地信賴E°值，因?yàn)樵趯?shí)際應(yīng)用上，由于溶液中不同離子的活度、超電位和類似因素的影響，會(huì)使E°值有很大的差異。但氧化和還原電位的計(jì)算仍有助于預(yù)先估算不同還原劑的有效程度。若全部標(biāo)準(zhǔn)氧化還原電位太小或?yàn)樨?fù)值，則金屬還原將難以發(fā)生。